光化学氧化技术属于高级氧化工艺，是新兴的现代水处理技术，该技术通过氧化剂（O3、H2O2等）在紫外（或可见）光的激发和催化剂(Fe2+、Fe3+ 、半导体等)的催化作用下，产生具有强氧化性的羟基自由基，羟基自由基的标准氧化电位达2.8eV，是除元素氟以外比较强的氧化剂，能无选择地将绝大多数有机物彻底氧化成CO2、H2O和其它无机物，反应速度快，耗时短，反应条件温和（常温、常压），操作条件易于控制，无二次污染。印染废水中染料的颜色来源于染料分子的共扼体系—含不饱和基团-N=N-、-N=O等的发色体，光化学氧化产生的羟基自由基能够有效打破共扼体系结构，使之变成无色的有机分子，并进一步矿化为H2O、CO2和其他无机物质。光化学氧化工艺上的特点和染料的分子结构特征决定了光化【污水处理设备】学氧化技术在印染废水处理方面具有其他工艺所无可比拟的优势。

    本文版权归北京中天恒远环保设备有限公司所有，主要从事污水处理设备、水处理设备生产及污水处理技术专项工作等，转载请注明http://www.ztscl.com.cn出处。