半导体用去离子水设备工作原理及处理过程

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　　一，半导体用去离子水设备工作原理

　　种：一般通过阳阴离子交换树脂取得的去离子水，出水电导率可降到10us/cm以下，再经过混床就可以达到1us/cm以下了。但是这种方法做出来的水成本极高，而且颗粒杂质太多，达不到理想的要求。目前已较少采用了。

　　第二种：预处理(即砂碳过滤器+精密过滤器)+反渗透+混床工艺这种方法是目前采用比较多的，因为反渗透投资成本也不算高，可以去除90%已上的水中离子，剩下的离子再通过混床交换除去，这样可使出水电导率：0.06左右。这样是目前比较流行的方法。

　　第三种：前处理与第二种方法一样使用反渗透，只是后面使用的混床采用EDI连续除盐膜块代替，这样就不用酸碱再生树脂，而是用电再生。这就彻底使整个过程无污染了，经过去离子水设备处理后的水质可达到15M以上。但这这种方法的前期投资比较多，运行成本低。

　　二，半导体用去离子水设备处理过程

　　先通过石英砂过滤颗粒较粗的杂质，然后高压通过反渗透膜，分离出溶剂与溶液。比较后一般还要经过一步紫外杀菌以去除水中的微生物。假如此时电阻率还没有达到要求的话，可以再进行一次离子交换过程，比较高电阻率可达到18兆。半导体行业中用的大多数是高纯度的去离子水。

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