集成电路EDI超纯水设备清洗污垢的方法详细介绍

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　　集成电路EDI超纯水设备清洗污垢的方法，小编听取根据技术人员的介绍，认真整理总结了一下，为您详细介绍

　　一，倒换电极

　　可以有效地减轻膜及阴极上的水垢，一般水垢沉积在浓水室阴极表面上，倒换电极后，浓水室、淡水室相应倒换造成水垢的不稳定状态，因而可以减轻结垢。

　　二，酸洗

　　是消除沉淀的有效方法，水垢积到一定程度，就需要进行酸洗，酸洗一般采用循环酸洗，浓水，淡水和极水室一次酸洗的方法。

　　三，碱洗

　　酸洗不能取出有机沉淀物，对于这类污染层可以用碱性食盐水清洗，使有机物消除，碱洗可以利用酸洗系统进行，一般不另设装置。

　　四，定期拆洗

　　采用上述方法不能回复除盐率时，应把EDI膜堆拆开清洗，重新组装一般1-1.5年电渗析需要拆洗一次。

　　集成电路芯片EDI电除盐系统采用的是比较流行的EDI膜块制水工艺，比较终出水电阻率能够达到18兆欧以上，与此同时，集成电路EDI电除盐系统的出水中还不会含有任何的细菌以及微生物，所以使用该种电路芯片EDI电除盐系统作为供水系统的企业的产品质量一定是符合标准的。

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