超纯水处理设备在光学领域中的重要作用日益突出,纯水水质已成为影响光学器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一,水质要求也越来越高.在生产中,高纯水主要用作纯水清洗和纯水配液,不同的工艺生产中纯水的用途及对水质的要求也不同.

　　清洗是指清除工件表面上液体和固体的污染物,使工件表面达到一定的洁净程度.清洗过程是清洗介质、污染物、工件表面三者之间相互作用,是一种复杂的物理过程,清洗不仅与污染的性质、种类、型态以及粘附程度有关.与清洗介质的理化性质、清洗性能、工件的材质、表面状态有关、还与清洗的条件如温度、压力以及附加的超声振动、超纯水处理设备振动等因素有关.

　　超纯水处理设备在光学中的应用

　　传统的清洗方式有浸式清洗、喷气清洗、喷流清洗、刷洗、喷淋清洗、喷雾清洗、减压清洗及高压水射流清洗等,而超声波纯水清洗是目前社会公认的比较先进的清洗方式.清洗需用纯水,如水中含有氯离子,电容器就会漏电.在电子管生产中,电子管阴极涂甫碳酸盐,如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命,因此其配液要使用纯水,在显象管和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用纯水,如纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含奇有机物胶体、微粒、细菌等,就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力,并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品.在黑白显象管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水,每生产一个晶体管需用纯水80kg.液晶显示器的屏面需有纯水清洗和用纯水配液,如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致废、次品.

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